Equipo de recubrimiento por iones de arco múltiple
La deposición iónica introduce varios tipos de descarga de gases en el campo de la deposición en fase vapor, haciendo que todo el proceso de deposición en fase vapor se realice en plasma. Este equipo de deposición iónica, eficiente y libre de contaminación, tiene ventajas como alta velocidad de deposición, alta tasa de ionización, gran energía iónica, operación sencilla, bajo costo y alta producción. La capa formada es más resistente al desgaste, puede proteger de manera más efectiva el sustrato, resistir la corrosión y formar una superficie uniforme y lisa, pudiendo aplicarse a superficies de metal, vidrio, cerámica y otros materiales.
Es ampliamente aplicable a estantes de acero inoxidable, piezas de acero inoxidable, adornos de puertas, duchas, manijas, ferretería de plomería, relojería, accesorios de baño, utensilios, grifos, encendedores de metal, accesorios metálicos para teléfonos, decoraciones de cristal de vidrio y tubos de vidrio, entre otros.
Introducción del equipo:
Especificaciones y dimensiones de la cámara de vacío | Diámetro: 700–4500 mm |
Formas de estructura | Puerta vertical individual, puerta vertical superior |
Sistema de obtención de vacío | Bomba de válvula deslizante, bomba de paletas rotativas, bomba de difusión, bomba molecular, bomba criogénica |
Fuente de evaporación | Fuente de arco rápido, fuente de limpieza iónica, fuente de sesgo pulsado y fuente de plasma |
Material de la cámara | Acero inoxidable |
Control inteligente | PLC, pantalla táctil, control remoto inalámbrico |
Capa | Capa simple, capa compuesta, capa compuesta multicapa |
Control de gas | Control de flujo másico MFC |
Se pueden personalizar equipos de diferentes especificaciones y funciones según las necesidades reales del cliente. | |
