多弧离子镀膜设备
离子镀将多种气体放电方式引入气相沉积领域，使整个气相沉积过程在等离子体中进行。这种高效、无污染的离子镀设备具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、操作简便、成本低和产量高等优点。形成的膜层耐磨性更高，能够更有效地保护基材、抵抗腐蚀，并形成均匀光滑的表面层，可在金属、玻璃、陶瓷等材料表面镀膜。
广泛适用于不锈钢展示架、不锈钢零件、门花、淋浴器、把手、水暖五金、钟表、卫浴洁具、餐具、水龙头、金属打火机、手机金属配件、玻璃水晶装饰品和玻璃管等。
设备介绍：
真空室规格及尺寸 | 直径：700–4500 mm |
结构形式 | 立式单门、立式顶开门 |
真空获得系统 | 滑阀泵、旋片泵、扩散泵、分子泵、冷泵 |
蒸发源 | 高速电弧源、离子清洗源、脉冲偏压源和等离子体源 |
腔体材料 | 不锈钢 |
智能控制 | PLC、触摸屏、无线遥控 |
膜层 | 单层膜、复合膜、多层复合膜 |
气体控制 | MFC 质量流量控制 |
可根据客户实际需求，定制不同规格和功能的设备。 | |
