Equipo de recubrimiento por pulverización catódica magnetron

Equipo de recubrimiento por pulverización catódica magnetron

2023-08-22 15:52:47   67

Equipo de deposición por pulverización catódica con control magnético — HIPIMS de alta potencia: alta velocidad de deposición, baja temperatura del sustrato, buena adherencia de la capa.

Equipo de deposición por pulverización catódica con control magnético — HIPIMS de alta potencia
Carita sonriente

 

Los equipos de deposición por pulverización catódica con control magnético tienen características de alta velocidad de deposición, baja temperatura del sustrato y buena adherencia de la capa, pudiendo realizar recubrimientos en grandes superficies. El equipo de pulverización DEYI puede lograr capas más densas, uniformes y con mejor adherencia, utilizando una fuente de pulverización completamente nueva, satisfaciendo las necesidades de clientes de diferentes niveles.

 

La nueva tecnología de pulverización rápida a baja temperatura amplía considerablemente el rango de aplicaciones del equipo DEYI, ofreciendo soluciones de alta calidad para productos que no pueden ser calentados o que tienen resistencia térmica limitada. El equipo se fabrica con tecnología innovadora, adecuado para recubrimientos decorativos de alta calidad y recubrimientos de aleación.

 

Ampliamente utilizado en utensilios de plástico, carcasas de teléfonos móviles, muebles de baño, llantas de automóviles, accesorios de metal y letreros, también se puede aplicar en el recubrimiento por pulverización de productos de plástico, cerámica, mosaico, resina y vidrio de cristal.

 

Introducción del equipo:

Especificaciones y dimensiones de la cámara de vacío

Diámetro: 700–3200 mm

Formas de estructura

Puerta vertical individual, puerta vertical superior

Sistema de obtención de vacío

Bomba de válvula deslizante, bomba de paletas rotativas, bomba de difusión, bomba molecular, bomba criogénica

Fuente de evaporación

Fuente de control magnético de alta velocidad, fuente de limpieza iónica, fuente de polarización pulsada, fuente de control magnético de plasma

Material de la cámara

Acero inoxidable

Control inteligente

PLC, pantalla táctil, control remoto inalámbrico

Capa

Película de plasma monolayer, película compuesta, película compuesta multicapa

Control de gas

Control de flujo másico MFC

Fuente de objetivos de pulverización

Planas, tubulares, curvadas y gemelas

Se pueden personalizar equipos de diferentes especificaciones y funciones según las necesidades reales del cliente.

 

Carita sonriente

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