Équipement de pulvérisation par magnétron

Équipement de pulvérisation par magnétron

2023-08-22 15:52:47   67

Équipement de dépôt par pulvérisation magnétron — HIPIMS haute puissance : vitesse de dépôt élevée, faible température du substrat, bonne adhérence du film.

Équipement de dépôt par pulvérisation magnétron — HIPIMS haute puissance
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Les équipements de dépôt par pulvérisation magnétron présentent des caractéristiques telles qu'une vitesse de dépôt élevée, une faible température du substrat et une bonne adhérence du film, permettant un dépôt sur de grandes surfaces. L'équipement DEYI de pulvérisation magnétron permet d'obtenir des films plus denses, uniformes et adhérents grâce à une source de pulvérisation magnétron entièrement nouvelle, répondant aux besoins des clients de différents niveaux.

 

La toute nouvelle technologie de pulvérisation rapide à basse température a considérablement élargi le champ d'application des équipements magnétron DEYI, offrant une solution de pulvérisation de haute qualité pour les produits ne pouvant pas être chauffés ou ayant une résistance thermique limitée. L'équipement est fabriqué avec des technologies innovantes, adapté à la métallisation de films décoratifs haut de gamme et de films d'alliage.

 

Largement utilisé dans la vaisselle en plastique, les étuis de téléphone portable, les accessoires de salle de bain, les roues de voiture, les accessoires et la signalétique de quincaillerie, etc., il peut également être écrasé et revêtu sur des produits en plastique, céramique, mosaïques, résines et produits en verre cristallin.

 

Présentation de l'équipement :

Spécifications et dimensions de la chambre à vide

Diamètre : 700–3200 mm

Forme de structure

Porte simple verticale, porte verticale à ouverture par le haut

Système d'obtention du vide

Pompe à clapet, pompe à palettes, pompe à diffusion, pompe moléculaire, pompe froide

Source d'évaporation

Source magnétron à grande vitesse, source de nettoyage d’ions, source de polarisation impulsionnelle, source de magnétron plasma

Matériau de la chambre

Acier inoxydable

Contrôle intelligent

PLC, écran tactile, télécommande sans fil

Film

Membranes plasmatiques monocouches, membranes composites, membranes composites multicouches

Contrôle des gaz

Contrôle de débit massique MFC

Source de cible en scos

Plan, tube rond, surface incurvée et type jumelé

Les équipements peuvent être personnalisés selon les besoins réels des clients pour différentes spécifications et fonctions.

 

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