Equipamento de revestimento por sputtering magnético

Equipamento de revestimento por sputtering magnético

2023-08-22 15:52:47   67

Equipamento de deposição por sputtering magnetron — HIPIMS de alta potência: alta velocidade de deposição, baixa temperatura de substrato, boa adesão da camada.

Equipamento de deposição por sputtering magnetron — HIPIMS de alta potência
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O equipamento de deposição por sputtering magnetron caracteriza-se por alta velocidade de deposição, baixa temperatura do substrato e boa adesão da camada, permitindo a deposição em grande área. O equipamento DEYI de sputtering magnetron consegue obter camadas mais densas, uniformes e com melhor adesão, usando fontes de sputtering magnetron completamente novas, satisfazendo as necessidades de clientes de diferentes níveis.

 

A nova tecnologia de sputtering de alta velocidade e baixa temperatura expande significativamente a gama de aplicações dos equipamentos DEYI, oferecendo soluções de sputtering de alta qualidade para produtos que não podem ser aquecidos ou têm limitação térmica. O equipamento é fabricado com tecnologia inovadora, adequado para a deposição de filmes decorativos de alta qualidade e filmes de ligas.

 

Amplamente utilizado em talheres de plástico, capas de telemóveis, louças sanitárias, jantes de automóveis, acessórios de ferragem e placas, entre outros, também pode aplicar revestimentos por sputtering em produtos de plástico, cerâmica, mosaico, resina e vidro cristalino.

 

Apresentação do equipamento:

Especificações e dimensões da câmara de vácuo

Diâmetro: 700–3200 mm

Tipo de estrutura

Portas verticais simples, portas verticais de abertura superior

Sistema de obtenção de vácuo

Bombas de válvula deslizante, bombas de palhetas rotativas, bombas de difusão, bombas moleculares, bombas criogénicas

Fonte de evaporação

Fonte de magnetron de alta velocidade, fonte de limpeza iónica, fonte de polarização pulsada, fonte de plasma magnetron

Material da câmara

Aço inoxidável

Controlo inteligente

PLC, ecrã tátil, controlo remoto sem fios

Camada

Filme de plasma de camada única, filme composto, filme composto multicamada

Controlo de gases

Controlo de fluxo de massa (MFC)

Fonte de alvo para sputtering

Modelos plano, tubular, curvado e duplo

Equipamentos podem ser personalizados com diferentes especificações e funções de acordo com as necessidades reais do cliente.

 

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