Оборудование для магнетронного напыления

Оборудование для магнетронного напыления

2023-08-22 15:52:47   67

Оборудование для нанесения покрытий магнетронным распылением — мощное магнетронное оборудование HIPIMS: высокая скорость образования пленки, низкая температура подложки и хорошая адгезия пленки.

Оборудование для нанесения покрытий магнетронным распылением — — Магнетронное оборудование высокой мощности HIPIMS
смайлик

 

Оборудование для нанесения покрытий магнетронным распылением обладает характеристиками высокой скорости образования пленки, низкой температуры подложки и хорошей адгезии пленки, а также может обеспечить покрытие большой площади. Оборудование для нанесения покрытий магнетронным распылением DEYI позволяет получать слои пленки с лучшей плотностью, однородностью и адгезией, а также использует новый источник магнетронного распыления для удовлетворения потребностей клиентов на разных уровнях.

 

Новая технология высокоскоростного и низкотемпературного напыления значительно расширила сферу применения магнетронного оборудования DEYI, предоставив высококачественные решения для нанесения методом напыления изделий, которые не поддаются нагреву или имеют ограниченную термостойкость. Оборудование изготовлено по инновационным технологиям и подходит для нанесения высококачественных декоративных пленок и легированных пленок.

 

Он широко используется в пластиковой посуде, корпусах мобильных телефонов, сантехнике, автомобильных колесах, аппаратных аксессуарах и вывесках и т. д. Его также можно использовать для нанесения напылением пластиковых изделий, керамики, мозаики, изделий из смолы и хрустального стекла.

 

Представление оборудования:

Технические характеристики и размеры вакуумной камеры

Диаметр: 700–3200 мм.

Структурная форма

Вертикальная одинарная дверь, вертикальная верхняя дверь.

Система сбора вакуума

Насос со шиберным клапаном, пластинчато-роторный насос, диффузионный насос, молекулярный насос, холодный насос.

Источник испарения

Высокоскоростной магнетронный источник, источник ионной очистки, источник импульсного смещения, плазменный магнетронный источник

Материалы полостей

Нержавеющая сталь

Интеллектуальное управление

ПЛК, сенсорный экран, беспроводной пульт дистанционного управления

Слой пленки

Однослойная плазматическая мембрана, композитная мембрана, многослойная композитная мембрана.

Газ-контроль

Регулирование массового расхода MFC

Целевой источник распыления

Плоский тип, тип круглой трубки, изогнутый тип и двойной тип.

Оборудование с различными характеристиками и функциями может быть настроено в соответствии с реальными потребностями клиентов.

 

смайлик

Консультация
Электронная почта
Карта
QQ