磁控溅射镀膜设备——HIPIMS 高功率磁控设备
磁控溅射镀膜设备具有成膜速率高、基材温度低、膜层附着力好等特点，可实现大面积镀膜。德一磁控溅射镀膜设备可获得致密性、均匀性及附着力更优的膜层，并采用全新磁控溅射源，满足不同层次客户的需求。
全新的高速低温溅射技术大幅拓展了德一磁控设备的应用范围，为不能加热或耐热性受限的产品提供高质量的溅射镀膜方案。设备采用创新技术制造，适用于高档装饰膜和合金膜的镀制。
广泛应用于塑料餐具、手机外壳、卫浴洁具、汽车轮毂、五金饰品及标牌等，也可对塑料制品、陶瓷、马赛克、树脂和水晶玻璃制品进行溅射镀膜。
设备介绍：
真空室规格及尺寸 | 直径：700–3200 mm |
结构形式 | 立式单门、立式顶开门 |
真空获得系统 | 滑阀泵、旋片泵、扩散泵、分子泵、冷泵 |
蒸发源 | 高速磁控源、离子清洗源、脉冲偏压源、等离子体磁控源 |
腔体材料 | 不锈钢 |
智能控制 | PLC、触摸屏、无线遥控 |
膜层 | 单层等离子体膜、复合膜、多层复合膜 |
气体控制 | MFC 质量流量控制 |
溅射靶源 | 平面式、圆管式、弧面式及孪生式 |
可根据客户实际需求，定制不同规格和功能的设备。 | |
